发明名称 涂布装置
摘要 本发明系一种涂布装置,可对基板涂布由涂布头之喷嘴吐出之溶液液滴,其中包含基板保持移动机构,可保持基板,并使基板进行循环移动以依序加以定位于涂布头之溶液之吐出作业位置、相机之拍摄作业位置及洗涤装置之洗涤作业位置各处。
申请公布号 TWI404573 申请公布日期 2013.08.11
申请号 TW099102409 申请日期 2010.01.28
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 日本 发明人 伊原一彦
分类号 B05C11/10 主分类号 B05C11/10
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 日本