发明名称 |
雷射直写式奈米周期性结构图案制程设备 |
摘要 |
本发明关于一种雷射直写式奈米周期性结构图案制程设备,设有一平台组、一量测回授组及一雷射直写头组,该平台组设有一底座及一混合式移动平台,该量测回授组与平台组相结合且设有一雷射干涉仪、一反射装置及一讯号接收装置,该雷射直写头组设有一雷射直写头、一雷射直写头控制介面装置及一对位介面装置,该对位介面装置系与量测回授组及雷射直写头控制介面装置相电性连接,提供一可产生任意图形及晶格排列之奈米孔洞、突破光学绕射极限缩小记录点、提高加工速度、精度及加工范围且成本低之结构图案制程设备者。 |
申请公布号 |
TWI405049 |
申请公布日期 |
2013.08.11 |
申请号 |
TW099121027 |
申请日期 |
2010.06.28 |
申请人 |
国立虎尾科技大学 云林县虎尾镇文化路64号 |
发明人 |
觉文郁;沈金钟;杨锦添;刘建宏;朱朝居;吴家鸿;黄俊杰;段黎黎;李源钦 |
分类号 |
G03F7/20;G03F9/00;G01B9/02 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
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地址 |
云林县虎尾镇文化路64号 |