成膜方法及记忆媒体（二）

摘要

本发明关于一种成膜方法及记忆媒体，该成膜方法系将基板收纳至处理容器内，并在气相状态下将含有钴脒之成膜原料与含有羧酸之还原剂导入至处理容器内，而于基板上形成Co膜。