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发明名称
使用X射线萤光之层尺寸精确量测
摘要
本发明揭示一种用于检验一样本之方法,其包括:引导一激发光束照射至一平整样本中包括一形体之区域上,该形体具有垂直于该样本之一平面之侧壁,该等侧壁上具有一薄膜。量测响应于该激发光束而自该样本发出之X射线萤光(XRF)之强度,并根据该强度来评估该等侧壁上该薄膜之厚度。在另一种方法中,使用XRF来评估一样本之表面层中凹槽之宽度及在抛光之后该等凹槽中所沈积材料之厚度。
申请公布号
TWI405282
申请公布日期
2013.08.11
申请号
TW095148324
申请日期
2006.12.22
申请人
乔丹菲利半导体有限公司 以色列
发明人
戴利普 艾尼赫利;杰瑞米 欧德尔
分类号
H01L21/66;G01N23/223
主分类号
H01L21/66
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
以色列
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