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发明名称
用以去除光阻剂之稀释剂组成物
摘要
本发明系提供一种用以去除光阻剂之稀释剂组成物,在制造用于液晶显示装置之玻璃基板及半导体时,使用于晶圆之周缘及后面部位,可在短时间内有效率地去除附着之不必要的光阻剂。本发明提供一种包含(a)烷基醯胺及(b)乙酸烷酯之用以去除光阻剂之稀释剂组成物,且较佳地,前述稀释剂组成物包含有(a)前述烷基醯胺1至99重量份,及(b)前述乙酸烷酯1至80重量份。另外,本发明提供一种使用前述稀释剂组成物之半导体元件或液晶显示装置之制造方法。
申请公布号
TWI405051
申请公布日期
2013.08.11
申请号
TW094116294
申请日期
2005.05.19
申请人
东进世美肯有限公司 南韩
发明人
尹锡壹;朴熙珍;郑宗铉;金柄郁
分类号
G03F7/42
主分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址
南韩
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