| 摘要 |
本发明提供一种光阻材料，其含有(A)具有以通式(1)表示之重复单位之高分子化合物，(B)藉由酸之作用成为于硷显像液中可溶之作为基础树脂之高分子化合物，(C)藉由高能量线之曝光产生酸之化合物，(D)有机溶剂，;(1);(R1表示氢原子或甲基，R2表示碳数1~15之直链状、分支状或环状之伸烷基或氟化伸烷基，R3表示碳数1~15之直链状、分支状或环状之氟化烷基)。;(A)成分之高分子材料对于波长200nm以下之辐射线具有优异之透明性，藉由选择树脂构造可调整拨水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、水解性等各种性能，且可由易取得及易处理之原料制造。 |
