| 摘要 |
本创作系一种应用于半导体元件及其生产设备与制程用模具、治具的清洁机具，主要包含有操作平台、导料装置以及清洁装置，该操作平台系依需求设置于适当位置，该导料装置系设置于操作平台上，且于操作平台上形成供半导体元件、制程用模具或治具进出的入口端及出口端，而该清洁装置系设置操作平台上，且与导料装置相邻设置者；本创作主要藉由导料装置的入口端将半导体元件或制程用模具与治具导送入操作平台，使该清洁装置以适当粒径、喷出压力、喷出量的固态二氧化碳喷向表面具有金属制品或塑料制品，或者灰尘、油渍等残留物的半导体元件及其生产设备、制程用模具或治具，使残留物与固态二氧化碳相互撞击后分离，或者，使固态二氧化碳进入残留物的细缝内昇华，加大残留物的细缝，终至残留物与半导体元件、制程用模具或治具完全分离，且完全不会有毁损半导体元件及其生产设备、制程用模具或治具本体表面之虞虑，达到半导体元件及其生产设备、制程用模具或治具之去污、保养的清洁效果。 |
