METAL FILM DEPOSITION,申请号US201113811472-传众专利搜索

发明名称	METAL FILM DEPOSITION
摘要	Disclosed are modified Atomic Layer Deposition processes used to deposit metal films on a substrate.
申请公布号	US2013202794(A1)	申请公布日期	2013.08.08
申请号	US201113811472	申请日期	2011.05.27
申请人	DUSSARRAT CHRISTIAN;OMARJEE VINCENT M.;AMERICAN AIR LIQUIDE, INC.	发明人	DUSSARRAT CHRISTIAN;OMARJEE VINCENT M.
分类号	C23C16/455	主分类号	C23C16/455
代理机构		代理人
主权项
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