发明名称 |
脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物,其含有选自亚甲基双脱氢枞酸及其衍生物中的两种以上的下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物。另外,本发明公开了下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物的制造方法。式(I)中,X分别独立地表示羟基或碳原子数1~4的烷氧基。<img file="DDA00003272836600011.GIF" wi="863" he="772" /> |
申请公布号 |
CN103237783A |
申请公布日期 |
2013.08.07 |
申请号 |
CN201180057560.5 |
申请日期 |
2011.12.06 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
佐藤幸藏;元木益司;上平茂生 |
分类号 |
C07C61/29(2006.01)I;C07C51/373(2006.01)I;C07C67/313(2006.01)I;C07C69/753(2006.01)I;C08G63/187(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I |
主分类号 |
C07C61/29(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
龚敏 |
主权项 |
1.一种脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物,其含有选自亚甲基双脱氢枞酸及其衍生物中的两种以上的、下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物,<img file="FDA00003272836300011.GIF" wi="863" he="772" />式(I)中,X分别独立地表示羟基或碳原子数1~4的烷氧基。 |
地址 |
日本国东京都 |