发明名称 脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物及其制造方法
摘要 本发明公开了一种脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物,其含有选自亚甲基双脱氢枞酸及其衍生物中的两种以上的下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物。另外,本发明公开了下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物的制造方法。式(I)中,X分别独立地表示羟基或碳原子数1~4的烷氧基。<img file="DDA00003272836600011.GIF" wi="863" he="772" />
申请公布号 CN103237783A 申请公布日期 2013.08.07
申请号 CN201180057560.5 申请日期 2011.12.06
申请人 富士胶片株式会社 发明人 佐藤幸藏;元木益司;上平茂生
分类号 C07C61/29(2006.01)I;C07C51/373(2006.01)I;C07C67/313(2006.01)I;C07C69/753(2006.01)I;C08G63/187(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I 主分类号 C07C61/29(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 龚敏
主权项 1.一种脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物,其含有选自亚甲基双脱氢枞酸及其衍生物中的两种以上的、下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物,<img file="FDA00003272836300011.GIF" wi="863" he="772" />式(I)中,X分别独立地表示羟基或碳原子数1~4的烷氧基。
地址 日本国东京都