发明名称 |
利用PLD技术在IBAD-MgO基带上快速制备简化单一CeO<sub>2</sub>缓冲层的方法 |
摘要 |
一种利用PLD技术在IBAD-MgO基带上快速制备简化单一CeO2缓冲层的方法,能够在外延生长YBCO超导层所必需的单一取向高织构度的缓冲层结构中不使用外延同质MgO层就能获得优异的结晶取向性,实现YBCO超导带材制备工艺中,缓冲层制造工艺的简单化和低成本化。 |
申请公布号 |
CN103233205A |
申请公布日期 |
2013.08.07 |
申请号 |
CN201310177028.8 |
申请日期 |
2013.05.14 |
申请人 |
上海超导科技股份有限公司 |
发明人 |
李贻杰;刘林飞 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 |
代理人 |
张妍 |
主权项 |
一种利用PLD技术在IBAD‑MgO基带上快速制备简化单一CeO2缓冲层的方法,其特征在于,该方法包含以下步骤:步骤1、把经高温烧结制备的CeO2氧化物靶材装入多通道激光镀膜系统腔体中的靶托;步骤2、将IBAD‑MgO基带缠绕在多通道激光镀膜系统内的辊轴上;步骤3、关闭多通道激光镀膜系统的门,并抽真空到所需真空度,然后启动加热器,升温到CeO2缓冲层镀膜工艺所需的温度值;步骤4、多通道激光镀膜系统中通入氧气,将气体的气压调节到CeO2缓冲层镀膜工艺所需的气压值;步骤5、启动激光靶旋转与扫描系统,启动准分子激光器,使激光器的能量和频率升到CeO2缓冲层镀膜工艺所需的值;步骤6、等加热温度、气压、激光能量、激光频率稳定后,打开激光光路开关,开始靶材表面预溅射过程;步骤7、等激光蒸发形成的椭球状等离子体稳定后,启动多通道传动装置的步进电机开关,并将金属基带的行走速度调到所需值,进行镀膜,金属基带通过多次缠绕在多通道传动装置的辊轴上,多次通过镀膜区;步骤8、完成镀膜后,关闭步进电机和激光光路开关。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区芳春路400号1幢3层301-15 |