中高温太阳能选择性吸收镀层的膜系结构及其制备方法

摘要

本发明所公开的是一种中高温太阳能选择性吸收镀层的膜系结构及其制备方法，所述膜系结构，以其在基底一表面依次有离子刻蚀层，铝红外反射膜层，氮化钛热扩散阻挡膜层，高金属含量的氮氧化钛吸收膜层，低金属含量的氮氧化钛吸收膜层，四氮化三硅减反射膜层和二氧化硅减反射膜层为主要特征；而其制备方法，以其首先是金属铜基底的表面刻蚀处理，和依次镀制铝红外反射膜层、氮化钛热扩散阻挡膜层、高金属含量的氮氧化钛吸收膜层、低金属含量的氮氧化钛吸收膜层、四氮化三硅减反射膜层和二氧化硅减反射膜层为主要特征；制成铝具有结构合理，吸收率较高，发射率较低，不易开裂脱离，适合长期在300℃温度下工作等特点，制备方法具有简单易控，制品质量好，适宜大工业化生产等特点。

主权项

一种中高温太阳能选择性吸收镀层的膜系结构，包括基底（1），其特征在于，在基底（1）的表面有与基底（1）互为一体的离子刻蚀层（2），在离子刻蚀层（2）的表面，由内之外依次有铝红外反射膜层（3），氮化钛热扩散阻挡膜层（4），高金属含量的氮氧化钛选择性吸收膜层（5），低金属含量的氮氧化钛选择性吸收膜层（6），四氮化三硅减反射膜层（7），和二氧化硅减反射膜层（8）。