一种透明导电膜用蚀刻液及其制备方法

摘要

本发明公开了一种透明导电膜用蚀刻液及其制备方法。本发明提供的透明导电膜用蚀刻液，包括草酸、邻氟苯甲酸、烷基酚聚氧乙烯醚、消泡剂和水。所述草酸占蚀刻液总重的0.5-10％，优选为1-5％；所述邻氟苯甲酸占蚀刻液总重的0.1-5％，优选0.5-2％；所述烷基酚聚氧乙烯醚占蚀刻液总重的0.01-5％，优选0.1-1％；所述消泡剂占蚀刻液总重的0.001-1％，优选0.01-0.1％；余量为所述水。该蚀刻液在蚀刻过程中完全不产生蚀刻残渣，有效抑制有效起泡，没有大量泡沫产生，且能够在温和的工作条件下对无定形ITO膜高效且高精度对ITO膜进行蚀刻，蚀刻效率和精度均满足现有要求，具有重要的应用价值。

主权项

一种透明导电膜用蚀刻液，由草酸、邻氟苯甲酸、烷基酚聚氧乙烯醚、消泡剂和水组成；所述草酸占所述蚀刻液总重的1‑5%；所述邻氟苯甲酸占所述蚀刻液总重的0.1‑5%；所述烷基酚聚氧乙烯醚占所述蚀刻液总重的0.1‑1%；所述消泡剂占所述蚀刻液总重的0.01‑0.1%；余量为所述水。