发明名称 一种纳米碳化硅的制备方法
摘要 本发明涉及一种纳米碳化硅的制备方法,属于纳米材料技术领域。将纳米二氧化硅和炭质材料混合均匀,然后将混合物压制成片并烧结后作为阴极,以石墨为阳极,将阴极和阳极放入熔融的氯化物熔盐电解质中,在500℃~1000℃温度下,在阴极和阳极之间施加电压进行电解,将阴极制备得到的产物依次经过碱洗、水洗和干燥,最终得到高纯度的纳米SiC。该工艺具有流程短、能耗低,对环境友好等特点。
申请公布号 CN103232038A 申请公布日期 2013.08.07
申请号 CN201310154570.1 申请日期 2013.04.28
申请人 昆明理工大学 发明人 马文会;谢江生;魏奎先;秦博;伍继君;谢克强;周阳;龙萍;杨斌;戴永年
分类号 C01B31/36(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 主分类号 C01B31/36(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种纳米碳化硅的制备方法,其特征在于具体步骤包括如下:将纳米二氧化硅和炭质材料以摩尔比1∶1~2的比例混合均匀、压制成型并烧结后作为阴极,以石墨为阳极,将阴极和阳极放入温度为500~1000℃熔融的氯化物熔盐电解质中,在阴极和阳极之间施加电压进行电解,然后将阴极制备得到的产物依次经过碱洗、水洗和干燥,最终得到高纯度的纳米碳化硅。
地址 650093 云南省昆明市五华区学府路253号