发明名称 |
一种兼容型掩膜版基准设计版图 |
摘要 |
本实用新型提供了一种兼容型掩膜版基准设计版图,包括多种光刻对准标记,位置为主图形区,主图形区外部环绕包围有遮光带,光刻对准标记均设置在遮光带的外部;在靠近版图两侧边的位置还设有多种条形码。本实用新型兼容型掩膜版基准设计版图糅合了多种掩膜版的设计细节,使掩膜版能有效地安全的在多种光刻机上使用。 |
申请公布号 |
CN203117634U |
申请公布日期 |
2013.08.07 |
申请号 |
CN201220022228.7 |
申请日期 |
2012.01.18 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
何伟明;朱骏 |
分类号 |
G03F1/42(2012.01)I;G03F1/48(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/42(2012.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种兼容型掩膜版基准设计版图,其特征在于,包括主图形区、环绕包围所述主图形区的遮光带外的光刻对准标记和条形码,在遮光带的外部环绕分布有第一光刻对准标记; 还包括包围所述主图形区和第一光刻对准标记的防护薄膜框架,所述防护薄膜框架包括外框和内框,沿防护薄膜侧边设有第二光刻对准标记; 在靠近两侧边的位置分别设有第一条形码和第二条形码; 还包括两个第三光刻对准标记,两个第三光刻对准标记对称地位于防护薄膜框架侧边与版图侧边之间。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |