一种新型的传感器真空灌注设备

摘要

本发明公开一种新型的传感器真空灌注设备，包括上真空室和下真空室，所述上真空室和下真空室之间通过隔板连接，隔板下表面设有加热板，还包括灌注阀、进液管和真空系统，所述灌注阀设置于加热板下表面，并将上真空室和下真空室连通，上真空室上表面设有电机，上真空室内表面设有搅拌装置，所述电机与搅拌装置连接，所述进液管穿过下真空室外壁，并与上真空室连通，进液管上安装有加液阀，下真空室底面紧贴内侧壁设有底板，底板下表面设有升降机构。本发明在真空条件下对液态介质搅拌处理，使得所含水分及气体迅速彻底地被排除；净化后的液态介质长期保持在真空条件下，只更换被灌器件，大幅度提高了工作效率。

主权项

一种新型的传感器真空灌注设备，其特征在于：包括上真空室和下真空室，所述上真空室和下真空室之间通过隔板连接，隔板下表面设有加热板，还包括灌注阀、进液管和真空系统，所述灌注阀设置于加热板下表面，并将上真空室和下真空室连通，上真空室上表面设有电机，上真空室内表面设有搅拌装置，所述电机与搅拌装置连接，所述进液管穿过下真空室外壁，并与上真空室连通，进液管上安装有加液阀，下真空室底面紧贴内侧壁设有底板，底板下表面设有升降机构，所述真空系统分别与上真空室和下真空室连接。