形成铜内连线结构的金属氧化障壁层的方法

摘要

本发明公开了一种铜内连线结构，包含铜层、内衬层以及障壁层。铜层形成于介电层内，内衬层形成于铜层与介电层之间，障壁层形成于内衬层与介电层间的边界，且障壁层由金属氧化物所形成。

主权项

一种用以形成铜内连线结构的方法，其特征在于，包含：提供一基板；形成一介电层于该基板上；形成一孔洞于该介电层内；形成一种晶层于该孔洞上；填入一导电层于该孔洞内；执行化学机械研磨法，以移除该导电层以及该种晶层中超出该孔洞的部分，使该介电层的顶端面外露，并形成一平坦化表面；形成一蚀刻停止层于该平坦化表面上；以及提供一热制程，使该种晶层中的金属元素扩散至该介电层的界面，以与该介电层中的碳或氮反应，形成一金属氧化障壁层，该金属氧化障壁层配置于该导电层下，其中该金属氧化障壁层包含碳或氮。