| 发明名称 | 高浓度邻苯二甲酸二甲酯的辐射去除方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种高浓度邻苯二甲酸二甲酯的辐射去除方法，采用高能射线对浓度为300～5000mg/L的邻苯二甲酸二甲酯水溶液进行高剂量辐射处理，处理后分离除去溶液中的固体物质。本法对邻苯二甲酸二甲酯的去除率在95％以上，实现了辐射降解产物的直接移除，无需要添加任何化学助剂，节约了能源。 | ||
| 申请公布号 | CN102219280B | 申请公布日期 | 2013.08.07 |
| 申请号 | CN201110111800.7 | 申请日期 | 2011.04.30 |
| 申请人 | 南京大学 | 发明人 | 赵永富;郑正;罗艳;张继彪;袁守军 |
| 分类号 | C02F1/30(2006.01)I;C02F1/58(2006.01)I | 主分类号 | C02F1/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人 | 夏平 |
| 主权项 | 一种高浓度邻苯二甲酸二甲酯的辐射去除方法，其特征在于：采用高能射线对浓度为300～5000mg/L的邻苯二甲酸二甲酯水溶液进行高剂量辐射处理，处理后分离除去溶液中的固体物质；所述高能射线为γ射线、X射线或电子束；所述高剂量辐射处理过程中邻苯二甲酸二甲酯水溶液的辐照吸收剂量为16～64kGy。 | ||
| 地址 | 210093 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号 | ||