发明名称 |
电极引入装置 |
摘要 |
本发明涉及等离子体增强化学气相沉积设备,公开了一种电极引入装置,其包括两个并列设置的电极支架;每个电极支架的一端与一个炉门电极相连,另一端为金属触头,与石墨舟上的电极块相连;还包括穿过炉门的连接杆,其伸入炉门内侧的一端连接石墨舟支撑杆,所述石墨舟支撑杆为至少两根并列的碳化硅棒。本发明中,电极引入装置采用搭接形式,依托电极支架将金属触头直接和炉门电极连接起来,石墨舟上的两个石墨垫块充当两电极块,每个金属触头上,与电极块上凹槽相接触的位置设置有凸起,接触良好,自动化程度高;碳化硅双棒耐温在1000多度,不易变形,提高电极接触的稳定性;机械机构简单,成本低,装配难度降低。 |
申请公布号 |
CN102321877B |
申请公布日期 |
2013.08.07 |
申请号 |
CN201110261064.3 |
申请日期 |
2011.09.05 |
申请人 |
北京七星华创电子股份有限公司 |
发明人 |
郑建宇;宋晓彬;王广明;桂晓波;杨光;唐亚非 |
分类号 |
C23C16/50(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
韩国胜;王莹 |
主权项 |
电极引入装置,其特征在于,包括:两个并列设置的电极支架;每个电极支架的一端与一个炉门电极相连,另一端为金属触头,与石墨舟上的电极块相连;所述电极块有两块,分别位于石墨舟两侧,且每块电极块上具有凹槽;所述每个金属触头上,与电极块凹槽相接触的位置设置有凸起。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层 |