一种校正曝光图形的方法

摘要

本发明涉及一种校正曝光图形的方法，该方法是通过改变掩膜板结构来实现，所述的掩膜板边缘区域的图案与曝光时掩膜板边缘区域发生变形的图案垂直。本发明从掩膜板入手提出了极限曝光下校正其图案的技术手段，极限曝光时图案采用特定的掩膜板可以校正图案形状，提高光刻工艺的生产效率。

主权项

一种校正曝光图形的方法，该方法是通过改变掩膜板结构来实现，其特征在于：所述的掩膜板边缘区域的图案与曝光时掩膜板边缘区域发生变形的图案垂直。