多色调光掩模的制造方法及图案转印方法

摘要

本发明提供多色调光掩模的制造方法及图案转印方法。该多色调光掩模具有包括透光部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的预定转印图案，针对形成在要被蚀刻加工的被转印体上的抗蚀剂膜，转印预定图案，使抗蚀剂膜构成为抗蚀剂图案，该抗蚀剂图案成为蚀刻加工中的掩模，其中，该制造方法包括如下步骤：掌握抗蚀剂膜所使用的抗蚀剂相对于曝光光的抗蚀剂特性；根据抗蚀剂特性来确定半透光部相对于曝光光的实效透射率；以及根据实效透射率至少对形成在透明基板上的遮光膜进行构图，由此形成半透光部。

主权项

一种多色调光掩模的制造方法，该多色调光掩模具有包括透光部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的预定转印图案，针对形成在要被蚀刻加工的被转印体上的抗蚀剂膜，转印所述预定转印图案，使所述抗蚀剂膜构成为抗蚀剂图案，该抗蚀剂图案成为所述蚀刻加工中的掩模，其中，所述制造方法包括如下步骤：掌握表示所述抗蚀剂膜所使用的抗蚀剂相对于曝光量的减膜量的关系的抗蚀剂特性；确定利用所述半透光部的透射光而形成在所述被转印体上的抗蚀剂图案相对于所述抗蚀剂膜的初始膜厚的减膜量（t），根据所述减膜量（t）和所述抗蚀剂特性来确定所述半透光部相对于所述曝光光的实效透射率；以及根据所述确定的实效透射率、所述半透光部的图案形状以及曝光机的曝光条件，至少对形成在透明基板上的遮光膜进行构图，由此形成所述透光部、所述遮光部以及所述半透光部。