微球薄膜制备装置与真空蒸发技术制备碳化硼微球薄膜和靶丸的方法

摘要

一种磁吸附微球薄膜制备装置，包括电机、系杆、固定盘、磁体和筛网。一种制备微球碳化硼薄膜的方法，使用安装有上述磁吸附微球薄膜制备装置的电子束蒸发设备，步骤为：(1)将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中，将铁磁性微球形衬底吸附在筛网之下并与筛网接触，使铁磁性微球形衬底位于坩埚正上方20～30cm处；(2)在真空条件进行镀膜，衬底温度为室温～300℃；(3)筛网的转动频率为0.001～0.01Hz，镀膜时束流值控制在80～100mA，镀膜时间以膜层厚度达到要求为限。一种碳化硼空心靶丸的制备方法，将以铁磁性微球为衬底的微球碳化硼薄膜在常压、900～1000℃退火处理后，在其表面开孔露出铁芯衬底，然后放入稀硫酸水溶液中腐蚀至少24小时。

主权项

一种磁吸附微球薄膜制备装置，包括电机（1），其特征在于还包括系杆（2）、固定盘（3）、磁体（4）和筛网（5），所述系杆（2）为弹性杆，其数量至少为三根，各系杆的一端与电机（1）的转动部件连接且沿电机转动部件的圆周等间隔分布，各系杆的另一端与筛网（5）连接，磁体（4）为多个，相隔一定间距安装在固定盘（3）的下端面上，安装有磁体的固定盘位于电机（1）、筛网（5）和系杆（2）围成的空间内，其下端面朝向筛网，当安装有磁体的固定盘通过杆件固定在电子束蒸发设备的真空室内时，其下端面与筛网（5）之间的间距h1控制在：0＜h1≤3mm；所述筛网（5）由在室温~300℃温度区间不变形的材料制作，其网孔的孔径小于铁磁性微球衬底（6）的球径。