沉积仪器及利用该沉积仪器的沉积方法

摘要

一传送腔室，连接至处理腔室；一基板承放部件，位于该处理腔室中，以承放一基板；一沉积源，面对该基板承放部件并储存一来源材料；以及一厚度测量部件，安装于该传送腔室中，以直接测量形成于该基板上的一沉积层的一实际厚度。利用采用该厚度测量部件的该沉积仪器可直接测量及监测该沉积层的实际厚度。因此，通过实时地监测该沉积层的实际厚度并修正用于控制该沉积层的实际厚度的沉积控制厚度，可准确地控制该沉积层的一厚度，进而可提高制作于该基板的一器件的可靠性及良率。

主权项

一种沉积仪器，其特征在于，包含：一处理腔室，该处理腔室中具有一反应空间；一传送腔室，连接至该处理腔室；一基板承放部件，位于该处理腔室中，以于该基板承放部件上承放一基板；一沉积源，面对该基板承放部件并储存一来源材料；一厚度测量部件，安装于该传送腔室中，以直接测量形成于该基板上的一沉积层的一实际厚度；一屏蔽支架，该屏蔽支架连接至该基板承放部件的一下部，其中一阴影屏蔽安装于该屏蔽支架中；以及一辅助屏蔽，该辅助屏蔽包含至少一屏蔽图案，并且该辅助屏蔽面对位于该阴影屏蔽的开口区域之间的该基板的一被动区域。