发明名称 |
一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统 |
摘要 |
本实用新型提供一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统,所述供应系统至少包括:至少一个供应箱,每个供应箱具有至少一个入液口和出液口;设于所述供应箱外壁且与外壁接触的兆声波发生器;用于提供供应箱清洗液且与供应箱入液口相连接的清洗液供应系统;与所述供应箱出液口相连接的循环泵及与所述循环泵连接的阀门。本实用新型提供的带有自动清洗装置的研磨液供应系统通过在研磨液供应箱外壁设置兆声波发生器,当供应研磨液结束时往研磨液供应箱中加入去离子水,之后开启兆声波发生器对供应箱和管路内壁残留的研磨液结晶体进行彻底清洗,这样可防止结晶的研磨液通过管路进入抛光界面,刮伤晶圆引起缺陷。 |
申请公布号 |
CN203092352U |
申请公布日期 |
2013.07.31 |
申请号 |
CN201320071078.3 |
申请日期 |
2013.02.07 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
发明人 |
熊世伟;陈枫 |
分类号 |
B24B57/02(2006.01)I |
主分类号 |
B24B57/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
余明伟 |
主权项 |
一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统,其特征在于,所述研磨液供应系统至少包括:至少一个供应箱,每个供应箱包括至少一个入液口和出液口;设于所述供应箱外壁且与外壁接触的兆声波发生器;用于提供供应箱清洗液的清洗液供应系统,与所述供应箱入液口相连接;用于抽取所述供应箱中清洗液的循环泵,与所述供应箱出液口相连接。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号 |