发明名称 薄膜晶体管、阵列基板及显示器件
摘要 本实用新型涉及一种薄膜晶体管、阵列基板及显示器件。薄膜晶体管、阵列基板包括形成在基板上的栅极、氧化物有源层、源极、漏极、像素电极,其特征在于源漏电极与氧化物有源层之间设置有源漏过渡层,通过在源漏极层与氧化物有源层之间形成一层源漏过渡层,减少了一次构图工艺,节省了一次mask,从而有效地降低了成本。同时增加的源漏过渡层可以阻挡氧化物有源层在刻蚀中被腐蚀,还可以有效地减少薄膜晶体管Vth(阈值电压)漂移、提高Ion(开启电流)/Ioff(关闭电流)、增强热稳定性。本实用新型技术手段简单,易于实施,具有广泛的应用前景。
申请公布号 CN203103309U 申请公布日期 2013.07.31
申请号 CN201220697078.X 申请日期 2012.12.14
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 成军;袁广才
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人 黄志华
主权项 一种薄膜晶体管,包括栅极、栅绝缘层、氧化物有源层、源极、漏极,其中,所述氧化物有源层对应所述源极与漏极间隔位置为沟道区,其特征在于,所述源极和所述氧化物有源层之间形成有源过渡层,所述漏极和所述氧化物有源层之间形成有漏过渡层,其中所述源过渡层和所述漏过渡层不相连,所述源过渡层与漏过渡层直接接触所述氧化物有源层。
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