发明名称 一种电化学腐蚀装置及其操作方法
摘要 本发明公开了一种用于场发射电子源的单晶钨丝的电化学腐蚀装置及其操作方法。本发明的电化学腐蚀装置包括直角支撑架、固定基准板、双向倾斜板、垂直调节板、陶瓷座固定架、U型管支撑架以及U型管。本发明是采用三维位置调节模块,构成一种新的电化学腐蚀装置,这种电化学腐蚀装置可以方便精确的调整场发射电子源的单晶钨丝插入腐蚀液的垂直度和侵入液面的深度,因此操控简单,控制精确,稳定性好,一旦获得最佳条件,其成功率可以达到95%以上;而且本发明采用U型管作为电解槽,能有效隔离两个电极并能减小两个电极在反应过程中因产生气泡而相互影响,还有利于信号源引线的连接,此外与烧杯作为电解槽相比,U型管电解槽更加节省腐蚀液。
申请公布号 CN102352526B 申请公布日期 2013.07.31
申请号 CN201110297744.0 申请日期 2011.09.30
申请人 北京大学 发明人 徐军;袁明艺;王朋博;刘亚齐
分类号 C25F3/08(2006.01)I 主分类号 C25F3/08(2006.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 贾晓玲
主权项 一种电化学腐蚀装置,其特征在于,所述电化学腐蚀装置包括直角支撑架、固定基准板、双向倾斜板、垂直调节板、陶瓷座固定架、U型管支撑架以及U型管,其中,所述直角支撑架固定在用以防止震动的光学平台上;所述固定基准板通过螺丝固定在所述直角支撑架的支撑面上;所述双向倾斜板的后表面与固定基准板的前表面相对并相连;所述垂直调节板固定在所述双向倾斜板的前表面上;所述陶瓷座固定架安装在所述垂直调节板的前表面上;所述U型管支撑架固定在所述直角支撑架的支撑面上并且位于所述固定基准板的正下方;U型管放置在所述U型管支撑架上;进一步包括一号微调螺纹副和二号微调螺纹副,其中,所述一号微调螺纹副设置在所述双向倾斜板的第二突出体的前表面上并穿透所述第二突出体与所述固定基准板的第一突出体的前表面接触;以及所述二号微调螺纹副设置在所述固定体的下表面上并穿透所述固定体与所述第二突出体的下表面接触;所述垂直调节板进一步包括垂直向导轨座、测微头支架、测微头以及导轨滑块,其中,所述垂直向导轨座固定在所述双向倾斜板的前表面上;所述测微头支架固定在所述垂直向导轨座的上表面的一端;所述测微头安装在所述测微头支架上;以及导轨滑块安装在所述垂直向导轨座的前表面上;所述陶瓷座固定架进一步包括固定架底座、固定支架以及陶瓷座安装孔,其中,所述固定架底座安装在所述导轨滑块的前表面上;所述固定支架通过螺纹孔安装在所述固定架底座的前表面;所述陶瓷座安装孔设置在所述固定支架的前端,进一步,所述固定架底座还包括上定位孔和下定位孔,分别设置在距所述螺纹孔距离为l的上方和下方,两个定位孔与所述螺纹孔的中心点在一条垂直线上;弹簧滚珠设置在所述固定支架的下方距所述螺纹孔距离为l的位置处,其中,l为弹簧滚珠距螺纹孔的距离。
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