| 发明名称 | 一种曝光机 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及显示领域应用的曝光设备，具体涉及一种曝光机，包括承载台、检测机构和移动导轨；所述移动导轨设置在所述承载台上；所述检测机构位于所述承载台上方，所述检测机构包括显微检测仪和搭载轴，所述显微检测仪设置在所述搭载轴上，所述搭载轴位于所述移动导轨上方。本实用新型能够实时对掩膜板进行检测，减少由掩膜板导致的不良，节约成本，提高生产效率，并且通过将检测机构中的搭载轴采用可伸缩设计，从而减小检测机构的占用空间，避免影响曝光机的正常工作。 | ||
| 申请公布号 | CN203101813U | 申请公布日期 | 2013.07.31 |
| 申请号 | CN201320114290.3 | 申请日期 | 2013.03.13 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 黎敏;吴洪江;张继凯;姜晶晶 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;G03F1/44(2012.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 韩国胜 |
| 主权项 | 一种曝光机，其特征在于，包括承载台、检测机构和移动导轨；所述移动导轨设置在所述承载台上；所述检测机构位于所述承载台上方，所述检测机构包括显微检测仪和搭载轴，所述显微检测仪设置在所述搭载轴上，所述搭载轴位于所述移动导轨上方。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||