发明名称 |
具有宽度周期性渐变表面的全息光栅制备方法 |
摘要 |
一种具有宽度周期性渐变表面的全息光栅的制备方法,包括如下步骤:步骤1:使用材料生长技术,在一洁净衬底表面沉积薄膜材料;步骤2:在薄膜材料上旋涂光刻胶并前烘;步骤3:利用全息干涉曝光技术,曝光、显影得到图形化的光刻胶掩膜板,从而形成由衬底、薄膜材料和图形化的光刻胶掩膜板所组成的基片;步骤4:对基片表面行刻蚀;步骤5:去除剩余的光刻胶,形成具有宽度周期性渐变表面的全息光栅,完成制备。采用本发明制备的宽度周期性渐变全息光栅具有面积大、结构有序可控、重复性好、稳定性高、制作成本低、操作简单等优点。 |
申请公布号 |
CN103226215A |
申请公布日期 |
2013.07.31 |
申请号 |
CN201310136826.6 |
申请日期 |
2013.04.19 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
宋国峰;王立娜;胡海峰;张晶;徐云;刘运涛 |
分类号 |
G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
一种具有宽度周期性渐变表面的全息光栅的制备方法,包括如下步骤:步骤1:使用材料生长技术,在一洁净衬底表面沉积薄膜材料;步骤2:在薄膜材料上旋涂光刻胶并前烘;步骤3:利用全息干涉曝光技术,曝光、显影得到图形化的光刻胶掩膜板,从而形成由衬底、薄膜材料和图形化的光刻胶掩膜板所组成的基片;步骤4:对基片表面行刻蚀;步骤5:去除剩余的光刻胶,形成具有宽度周期性渐变表面的全息光栅,完成制备。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |