发明名称 具有宽度周期性渐变表面的全息光栅制备方法
摘要 一种具有宽度周期性渐变表面的全息光栅的制备方法,包括如下步骤:步骤1:使用材料生长技术,在一洁净衬底表面沉积薄膜材料;步骤2:在薄膜材料上旋涂光刻胶并前烘;步骤3:利用全息干涉曝光技术,曝光、显影得到图形化的光刻胶掩膜板,从而形成由衬底、薄膜材料和图形化的光刻胶掩膜板所组成的基片;步骤4:对基片表面行刻蚀;步骤5:去除剩余的光刻胶,形成具有宽度周期性渐变表面的全息光栅,完成制备。采用本发明制备的宽度周期性渐变全息光栅具有面积大、结构有序可控、重复性好、稳定性高、制作成本低、操作简单等优点。
申请公布号 CN103226215A 申请公布日期 2013.07.31
申请号 CN201310136826.6 申请日期 2013.04.19
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 宋国峰;王立娜;胡海峰;张晶;徐云;刘运涛
分类号 G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G02B5/18(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汤保平
主权项 一种具有宽度周期性渐变表面的全息光栅的制备方法,包括如下步骤:步骤1:使用材料生长技术,在一洁净衬底表面沉积薄膜材料;步骤2:在薄膜材料上旋涂光刻胶并前烘;步骤3:利用全息干涉曝光技术,曝光、显影得到图形化的光刻胶掩膜板,从而形成由衬底、薄膜材料和图形化的光刻胶掩膜板所组成的基片;步骤4:对基片表面行刻蚀;步骤5:去除剩余的光刻胶,形成具有宽度周期性渐变表面的全息光栅,完成制备。
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