发明名称 清洗装置、仪器和方法
摘要 本申请提供了一种允许待清洗物体不具有未直接暴露给超声波的区域的清洗装置、仪器和方法。解决手段是一种清洗装置1包括清洗槽2、耦合槽3、超声波产生单元6和变更单元7。清洗槽2保持用于清洗作为待清洗物体的基板10的清洗液4。耦合槽3保持中间介质5,并且清洗槽2具有与中间介质5接触的部分。超声波产生单元6设置在耦合槽3处,并且经由中间介质5超声振荡清洗液4。变更单元7变更清洗液4中的声速和中间介质5中的声速之间的差别。
申请公布号 CN103223406A 申请公布日期 2013.07.31
申请号 CN201310031343.X 申请日期 2013.01.28
申请人 硅电子股份公司 发明人 森良弘;榛原照男;久保悦子;内部真佐志
分类号 B08B3/12(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I 主分类号 B08B3/12(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 张伟;王英
主权项 一种清洗装置,包括:‑清洗槽,其保持用于清洗待清洗物体的清洗液,‑耦合槽,其保持中间介质并且被布置成使得所述清洗槽具有与所述中间介质接触的部分;‑超声波产生单元,其设置在所述耦合槽处,并且经由所述中间介质对所述清洗液进行超声振荡;以及‑变更单元,其变更所述清洗液中的声速与所述中间介质中的声速之间的差别。
地址 德国慕尼黑