| 发明名称 | 清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种清洗方法，其中可改进去除特定尺寸的杂质的效率。因此本发明提供一种清洗方法，其包括以下步骤：准备清洗液(S10)，和通过在用超声波辐射清洗液的情况下将要清洗的物体浸入清洗液中来清洗要清洗的物体(S20)。在清洗步骤(S20)中，已根据要以最大去除效率从要清洗的物体中去除的杂质的尺寸调整了所述清洗液中的溶解氮浓度。如此可通过根据要去除的杂质的尺寸改变清洗液中的溶解氮浓度有效地去除特定尺寸的杂质。 | ||
| 申请公布号 | CN103223405A | 申请公布日期 | 2013.07.31 |
| 申请号 | CN201310020562.8 | 申请日期 | 2013.01.21 |
| 申请人 | 硅电子股份公司 | 发明人 | 久保悦子;榛原照男;森良弘;内部真佐志 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 彭丽丹;过晓东 |
| 主权项 | 一种清洗方法，其包括以下步骤：准备清洗液；和通过在用超声波辐射所述清洗液的情况下将要清洗的物体浸入所述清洗液中来清洗所述要清洗的物体，所述清洗步骤的特征在于，已根据要以最大去除效率从所述要清洗的物体中去除的杂质的尺寸调整了所述清洗液中的溶解氮浓度。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||