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发明名称 POLYMER COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SUCH POLYMER COMPOUND, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP1736485(B1) 申请公布日期 2013.07.31
申请号 EP20050728789 申请日期 2005.04.05
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 OGATA, TOSHIYUKI;MATSUMARU, SYOGO;HADA, HIDEO;YOSHIDA, MASAAKI
分类号 C08F8/00;C07C69/54;C08F20/20;C08F220/28;C08F222/10;C08F232/08;G03F7/004;G03F7/039 主分类号 C08F8/00
代理机构 代理人
主权项
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