发明名称 X射线发射装置及X射线产生方法
摘要 一种X射线发射装置,包括:控制电路及多个独立控制的光路,每个光路包括:普通光源,用于发射特定波长范围的光线;光学组件,用于对普通光源发射的光线进行聚焦;光阴极,用于光激发电子;电子束聚焦结构,用于对光阴极产生的电子束进行聚焦;阳极靶,受到加速电子的轰击而通过韧致辐射产生X射线;X射线出射窗及普通光入射窗,设于真空容器上;真空容器,用于封装光阴极、电子束聚焦结构及阳极靶。上述X射线发射装置能够实现多束X射线集成于单个X射线发射装置,其具有高时间分辨率、可编程、脉冲式发射、发射区域的大小和形状可改变、高压容易接入难度小、阳极靶容易散热和结构相对简单的优点。本发明还提供一种X射线产生方法。
申请公布号 CN103227082A 申请公布日期 2013.07.31
申请号 CN201210563539.9 申请日期 2012.12.22
申请人 深圳先进技术研究院 发明人 陈垚;郑海荣;陈婷;桂建保;蒋昌辉
分类号 H01J35/02(2006.01)I;H01J35/06(2006.01)I;H01J35/22(2006.01)I;H05G1/30(2006.01)I 主分类号 H01J35/02(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 李永华;吴平
主权项 一种X射线发射装置,其特征在于,包括控制电路及多个独立控制的光路,每个光路包括普通光源、光学组件、普通光入射窗、光阴极、电子束聚焦结构、阳极靶、X射线出射窗及真空容器;所述控制电路,用于控制所述多个光路的普通光源的工作状态;所述普通光源,用于发射特定波长范围的光线;所述光学组件,用于对所述普通光源发射的光线进行聚焦;所述普通光入射窗,设于所述真空容器上,所述普通光入射窗用于透过所述特定波长范围的光线;所述光阴极,用于光激发电子;所述电子束聚焦结构,用于对所述光阴极产生的电子束进行聚焦;所述阳极靶,受到加速电子的轰击而通过韧致辐射产生X射线;所述X射线出射窗,设于所述真空容器上,所述X射线出射窗用于透过X射线;及所述真空容器,用于封装所述光阴极、电子束聚焦结构及阳极靶;其中,所述普通光源发射的光线,经过所述光学组件聚焦后,透过所述普通光入射窗而照射到所述光阴极上,所述光阴极受到光激发而产生电子;所述电子束在所述电子束聚焦结构的约束下,并在高压电场的加速作用下轰击所述阳极靶,使所述阳极靶产生X射线。
地址 518055 广东省深圳市南山区西丽大学城学苑大道1068号