Method and device for determining the surface topography of coated, reflective surfaces

摘要

Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Messtechnik und betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung, wie es beispielsweise in der Dünnschichttechnik für organische dielektrische, halbleitende oder leitende Schichten auf Substraten angewandt werden kann.

<Paragraphs id="pa02" num="0002" xmlns:base="http://www.sipo.gov.cn/XMLSchema/base">Die Aufgabe der Erfindung besteht in der Angabe eines Verfahrens und einer Vorrichtung, mit dem sowohl die Oberflächentopographie der Beschichtung als auch der Oberfläche unabhängig voneinander an derselben Position ermittelt werden kann.

<Paragraphs id="pa03" num="0003" xmlns:base="http://www.sipo.gov.cn/XMLSchema/base">Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren, bei dem mittels einer chromatischen Weißlichtmessung die dreidimensionale Topografie der Beschichtung und nachfolgend mittels UV-Interferometrie die Dicke der Beschichtung ermittelt wird und durch Vergleich mit den Gesamtabmessungen der beschichteten Oberfläche die Oberflächentopografie der beschichteten Oberfläche ermittelt wird.

<Paragraphs id="pa04" num="0004" xmlns:base="http://www.sipo.gov.cn/XMLSchema/base">Die Aufgabe wird weiterhin gelöst durch eine Vorrichtung, bei der eine Vorrichtung zur chromatischen Weißlichtmessung und eine Vorrichtung zur UV-Interferometrie auf einem Messplatz angeordnet sind.