一种采用共溅射法制备非晶-纳米晶复合膜的方法

摘要

本发明公开了一种采用共溅射法制备非晶-纳米晶复合膜的方法，其是在基体上通过双靶磁控溅射同时沉积非晶相和纳米晶相制备成非晶相和晶体相共存的混合物薄膜。本发明制备的非晶共溅射膜具有更高蠕变应变速率敏感值，力学性能更为优异，塑性变形更加均匀。该方法以一种更加简单、可行性更强的方法成功制备出了非晶相和纳米晶相均匀共存的非晶混合物薄膜。该薄膜可在微机电系统（MEMS）、甚至纳机电系统（NEMS）器件等各类精密仪器的保护涂层和功能涂层等方面得到广泛应用。

主权项

一种采用共溅射法制备非晶‑纳米晶复合膜的方法，其特征在于，在基体上通过双靶磁控溅射同时沉积非晶相和纳米晶相制备成非晶相和晶体相共存的混合物薄膜。