一种组合式光谱选择性吸收膜层快速沉积工艺

摘要

本发明是一种组合式光谱选择性吸收膜层快速沉积工艺，组合式光谱选择性吸收膜层由内至外由红外反射层、吸收层和减反层依次叠合组成；它采用磁控溅射方法得到红外反射层和吸收层，采用空心阴极气流溅射方法得到减反层。本发明工艺充分利用了磁控溅射方法制备的红外反射层、吸收层金属纯度高，且能够充分发挥磁控溅射法能够精确控制膜层中的金属含量和膜层厚度的优点，从而得到具有高吸收比，低发射比的太阳光谱选择性吸收膜层。利用气流反应溅射制备的金属化合物纯度高、致密、沉积速率快的优点，提高整个光谱选择性吸收膜层的抗氧化性、耐腐蚀性和耐高温性能。本发明工艺沉积效率高、沉积速率快、膜层结合牢靠、膜层性能大幅度提高的优点。

主权项

一种组合式光谱选择性吸收膜层快速沉积工艺，其特征在于：组合式光谱选择性吸收膜层由内至外由红外反射层、吸收层和减反层依次叠合组成；该沉积工艺采用磁控溅射方法，分别得到红外反射层和吸收层，采用空心阴极气流溅射方法得到减反层；所述的红外反射层采用Ag、Ni、Cu、Al中的一种为原料，或者采用Ag、Ni、Cu、Al中两种或两种以上的合金为原料；所述的吸收层由金属填充因子依次变化的2‑4个子层组成，每个子层均采用磁控溅射方法制备金属填充元素M+M氧化物或者M+M氮氧化物组成混合物陶瓷介质薄膜，其中靠近红外反射层的吸收子层的金属填充因子高于靠近减反层的吸收子层的金属填充因子；所述金属填充元素M选自Fe、Cr、Ni、Ti、Mn、Sn、Zn、Mg、Si、V、Mo、W、Re中的一种或几种组成的合金； 所述的减反层为Al2O3薄膜，沉积时采用金属Al合金为原料并使用空心阴极气流溅射法生成。