一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的镀制方法

摘要

本发明涉及一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的镀制方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对近红外激光高反膜中限制阈值的瓶颈——节瘤。当前的技术手段主要通过消除节瘤，即降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但在当前技术条件下，消除节瘤需要耗费巨大的成本，而且无法完全消除。本发明提出了一种直接改善节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明，镀膜工艺决定了节瘤的几何特性，而节瘤的几何特性与抗激光损伤特性息息相关。通过加大薄膜分子在基板沉积的入射角，降低入射分子的沉积动能，可以使得节瘤的阈值得到明显改善。此方法具有针对性强、效率高、简单易行的特点。

主权项

一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀制方法，其特征在于具体步骤如下：(1)将基板清洗干净，然后利用高纯氮气吹干后放入镀膜机内；(2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为1×10‑3Pa～3×10‑3Pa，将基板加热至200度，并恒温80分钟；(3) 固定基板与蒸发源HfO2和SiO2的相对位置，采用电子束交替蒸发HfO2和SiO2；控制蒸镀时的氧分压为1.0E‑2Pa～3.0E‑2Pa，速率为0.05nm/s～0.3nm/s；(4)待真空室内温度自然冷却至室温后取出镀制好的样品。