| 发明名称 | 一种曝光机 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种曝光机，包括：掩模板和遮挡组件；所述掩模板与所述遮挡组件相对方向设置有保护薄膜；所述遮挡组件包括遮光条；所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应。本实用新型的曝光机可解决遮挡组件与掩模板的保护薄膜发生干涉的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN203084414U | 申请公布日期 | 2013.07.24 |
| 申请号 | CN201320076045.8 | 申请日期 | 2013.02.18 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 黄文同;李亚文;汪雄 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种曝光机，包括： 掩模板和遮挡组件； 所述掩模板与所述遮挡组件相对方向设置有保护薄膜； 所述遮挡组件包括遮光条； 其特征在于，所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应。 | ||
| 地址 | 230011 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 | ||