发明名称 氮化镓射频功率器件及其制备方法
摘要 本发明属于高电子迁移率器件技术领域,具体涉及一种氮化镓射频功率器件及其制备方法。本发明采用先栅工艺制备氮化镓射频功率器件,利用栅极侧墙来实现栅极与源极位置的自对准,减小了产品参数的漂移。同时,由于栅极被钝化层保护,使得源极与漏极能够在栅极形成之后通过合金化工艺来形成,降低了源、漏接触电阻,增强了氮化镓射频功率器件的电学性能。
申请公布号 CN103219376A 申请公布日期 2013.07.24
申请号 CN201310098145.5 申请日期 2013.03.25
申请人 复旦大学 发明人 王鹏飞;刘晓勇;孙清清;周鹏;张卫
分类号 H01L29/778(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I 主分类号 H01L29/778(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 一种氮化镓射频功率器件,包括:在衬底上依次形成的氮化镓铝缓冲层、氮化镓沟道层、氮化镓铝隔离层;以及,在所述氮化镓铝隔离层之上形成的栅介质层;其特征在于,还包括:在所述栅介质层之上形成的栅叠层区,包括栅极以及位于栅极之上的钝化层;在所述栅叠层区的两侧形成的第一栅极侧墙;在所述氮化镓铝隔离层之上,所述栅极的一侧形成的漏极以及在所述栅极的非漏极侧形成的源极;只在所述栅叠层区靠近漏极的一侧,且位于所述第一栅极侧墙与漏极之间形成的第二栅极侧墙。
地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号