发明名称 | 一种MIPM型内场发射阴极 | ||
摘要 | 本发明的阴极属于真空电子学和材料学领域,尤其涉及一种MIPM型内场发射阴极。本发明的MIPM型内场发射阴极由底电极层、绝缘层、电子储存传输层和顶电极层组成,其主要特征在于电子储存传输层采用多孔硅薄膜材料。在交流驱动模式下,该功能层不仅能输运电子而且能储存电子,从而提高发射效率。与现有技术相比,本发明具有发射电流大、稳定性好等优点,并且这种阴极环境适应能力强,不仅可在气体中工作,也可在液体中工作。 | ||
申请公布号 | CN102280332B | 申请公布日期 | 2013.07.24 |
申请号 | CN201110184514.3 | 申请日期 | 2011.07.04 |
申请人 | 四川大学 | 发明人 | 邹宇;展长勇;林黎蔚;任丁;刘波;黄宁康;肖婷 |
分类号 | H01J1/312(2006.01)I | 主分类号 | H01J1/312(2006.01)I |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种MIPM型内场发射阴极,其包括依次连接的四个功能薄膜层:底电极层、绝缘层、电子储存传输层和顶电极层,其特征在于,所述的底电极层材料为金属或合金,厚度≧10 nm,所述的顶电极层材料为低电子亲和势能的金属或半导体,所述的低电子亲和势能的金属或半导体为Au、Ag或ZrN,厚度为5 nm~500 nm,所述的绝缘层材料为金属氧化物、第四族元素氧化物、陶瓷或云母,厚度为100 nm~1 μm,所述的电子储存传输层材料为n型多孔硅,厚度为10 μm~0.5 mm。 | ||
地址 | 610064 四川省成都市一环路南一段24号 |