从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法

摘要

一种从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法，包括步骤：调节待处理印制电路板酸性蚀刻废液的pH值在2.0～3.0之间；絮凝沉淀：①按每立方米待处理印制电路板酸性蚀刻废液称取0.8～1.5千克的絮凝剂；②用水稀释称量好的絮凝剂，搅拌配置成粘稠溶液；③将絮凝剂溶液加入经pH值调节后的酸性蚀刻废液中，搅拌3～20分钟，然后静置3～6小时；将沉淀物过滤掉，得到除砷后的印制电路板酸性蚀刻废液。本发明除砷的pH值方法采用pH值调节法和絮凝沉淀法共同使用，在成本低廉的情况下实现对印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理，具有处理成本低、操作简单和设备投资小等优点，适合对大批量印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理。

主权项

一种从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法，用于从印制电路板酸性蚀刻废液生产出碱式氯化铜的前期处理，包括如下步骤：A、pH值调节：调节待处理印制电路板酸性蚀刻废液的pH值在2.2～2.8之间；B、絮凝沉淀：①称量，按每立方米待处理印制电路板酸性蚀刻废液称取0.8～1.5千克的絮凝剂，该絮凝剂是聚丙烯酰胺PAM；②配置絮凝剂溶液，用水稀释称量好的絮凝剂，搅拌配置成粘稠溶液；③将配置好的絮凝剂溶液加入经所述pH值调节后的酸性蚀刻废液中，搅拌3～20分钟，然后静置3～6小时；C、过滤：将沉淀物过滤掉，得到除砷后的印制电路板酸性蚀刻废液。