真空等离子刻蚀反应腔体设备

摘要

本实用新型公开了一种真空等离子刻蚀反应腔体设备，包括腔体上极板及腔体下极板，所述腔体上极板及腔体下极板分别连接交变电源，硅片设置在所诉腔体下极板的上方，腔体下极板中设置有多个通孔，用于通过顶针，每个所述顶针中串联一电感，所述顶针设置在顶针支撑架上，所述顶针支撑架与气缸相连，通过所述气缸带动所述顶针上下移动，所述气缸接地。本实用新型能满足阻止大功率高频的交变电源功率的流失，又改善静电放电回路。

主权项

一种真空等离子刻蚀反应腔体设备，其特征在于，包括腔体上极板及腔体下极板，所述腔体上极板及腔体下极板分别连接交变电源，硅片设置在所诉腔体下极板的上方，腔体下极板中设置有多个通孔，用于通过顶针，每个所述顶针中串联一电感，所述顶针设置在顶针支撑架上，所述顶针支撑架与气缸相连，通过所述气缸带动所述顶针上下移动，所述气缸接地。