制造高密度氧化锡铟(ITO)溅射靶

摘要

提供了制造氧化锡铟(ITO)溅射靶的方法。所述方法包括：沉淀氢氧化铟和氢氧化锡、煅烧氢氧化物、以生产颗粒状ITO粉末、使用添加剂（如专门的烧结助剂、分散剂和粘结剂）制备ITO粉末的含水浆液、研磨浆液以得到粉浆、使用多孔铸模通过浇注粉浆制备压实的ITO生坯或干燥粉浆以产生颗粒状ITO粉末和冷等静压粉末、和烧结生坯以产生具有大于理论的99%的高密度的ITO靶。

主权项

一种生产高密度ITO靶的方法，所述方法包括形成ITO粉末含量大于80%重量百分比的ITO粉末的含水粉浆，所述粉浆包含一种或多种砷、锑、铋、硒、碲和/或硼的化合物形式的烧结助剂。