光刻装置和器件制造方法

摘要

一种光刻装置，包括：构造用于保持基底的两个基底台；用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投射系统；用于在投射期间向所述投射系统的最终元件和所述基底之间提供液体的液体供给系统；和所述光刻装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台能够用于基底的曝光，另一个基底台能够用于准备步骤；所述光刻装置被构造和布置以在基底从所述投射系统下离开时保持最终元件与水接触。

主权项

一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；构造用于保持基底的两个基底台；用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投影系统；液体供给系统，包括位于投影系统下面的密封构件，所述液体供给系统配置成用于在投射期间向所述投影系统的最终元件和所述基底之间的密封构件内的空间提供液体；和所述光刻投影装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台能够用于基底的曝光，另一个基底台能够用于准备步骤；所述光刻投影装置被构造和布置以在基底从所述投影系统下离开时保持最终元件与液体接触；其中所述光刻投影装置还包括遮光构件，所述遮光构件是构造和布置以通过附着于密封构件的底部以覆盖所述密封构件中的孔的表面。