埋藏式电路结构之制作方法

摘要

一种埋藏式电路结构之制作方法，首先提供一具有至少一沟渠之基底、于该沟渠内形成一顶部低于该沟渠之开口的导电层、进行一选择性金属化学气相沈积制程，于该沟渠内形成一表面系低于该基底表面之金属层、以及于该金属层上形成一覆盖该金属层之保护层。