发明名称 曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法
摘要 本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。;本发明的解决手段涉及一种曝光装置,其使由具有多个光学单元L1~L13之光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置,其对由多个光学单元L1~L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正,以补偿多个光学单元L1~L13的变动。
申请公布号 TWI402627 申请公布日期 2013.07.21
申请号 TW095102747 申请日期 2006.01.25
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 加藤正纪;清水贤二;户口学;渡边智行
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址 日本
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