发明名称 实施以金属绝缘体金属为基础之去耦合电容器的缺陷率免疫技术
摘要 一种积体电路电力供应去耦合电路,其包括一电容器及一保护电路。该电容器具有一第一端子及一第二端子。该保护电路包括:一第一电晶体,其具有一第一传导路径;及一第二电晶体,其具有一第二传导路径。该第一传导路径之一端子连接至该电容器之该第一端子,且该第一传导路径之另一端子连接至一第一电力供应轨。该第二传导路径之一端子连接至该电容器之该第二端子,且该第二传导路径之另一端子连接至一第二电力供应轨。
申请公布号 TWI402965 申请公布日期 2013.07.21
申请号 TW100121509 申请日期 2011.06.20
申请人 LSI公司 美国 发明人 凡卡曼 雷纳斯;卡斯塔奈堤 卢盖洛
分类号 H01L27/04 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国