发明名称 铜箔及使用其之覆铜积层板
摘要 本发明提供一种用于覆铜积层板时弯曲性优异之铜箔及使用其之覆铜积层板。该铜箔之厚度为5~30 μm,压延平行方向之表面粗糙度Ra≦0.1 μm,且以350℃进行0.5小时退火后之加工硬化指数为0.3以上0.45以下。
申请公布号 TWI402165 申请公布日期 2013.07.21
申请号 TW099146067 申请日期 2010.12.27
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 日本 发明人 中室嘉一郎
分类号 B32B15/20;B32B15/08;C22F3/00 主分类号 B32B15/20
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本