| 摘要 |
1. Стол для обработки неметаллических прозрачных материалов лазерным излучением, имеющий рабочую поверхность, на которой расположен по меньшей мере один покрывающий слой для позиционирования обрабатываемого материала, причем указанный по меньшей мере один покрывающий слой выполнен из материала, который является прозрачным для лазерного излучения в диапазоне длин волн 300-3000 нм и представляет собой упругоэластичный вспененный материал с закрытоячеистой структурой.2. Стол по п.1, в котором материал указанного по меньшей мере одного покрывающего слоя является прозрачным для импульсного лазерного излучения с длинами волн в диапазоне 1030-1120 нм, предпочтительно 1070 нм.3. Стол по п.1, который выполнен в виде каркаса, на котором образована указанная рабочая поверхность.4. Стол по п.1, в котором упругоэластичный вспененный материал является физически или химически сшитым.5. Стол по п.1, в котором упругоэластичный вспененный материал имеет кратность вспенивания, составляющую от 5 до 35.6. Стол по п.1, в котором упругоэластичный вспененный материал имеет плотность от 20 до 200 кг/м.7. Стол по п.1, в котором упругоэластичный вспененный материал имеет остаточную деформацию, составляющую менее 4%.8. Стол по п.1, в котором упругоэластичный вспененный материал представляет собой пенолон.9. Стол по п.1, в котором покрывающий слой имеет толщину от 1 до 50 мм.10. Стол по п.1, в котором покрывающий слой дублирован алюминиевой фольгой.11. Стол по п.1, который имеет систему для обеспечения создания эффекта «воздушной подушки» при позиционировании обрабатываемого материала, включающую в себя выполненные в столе выпускные отверстия для поддува воздуха. |
