Verfahren zur Herstellung eines dotierten SiO2-Schlickers sowie Verwendung des SiO2-Schlickers

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines dotierten SiO2-Schlickers indem eine SiO2-Suspension mit mindestens einer Dotierlösung in Wechselwirkung gebracht wird, wobei die SiO2-Suspension oder/und die Dotierlösung als Sprühnebel aufeinander einwirken, dessen mittlerer Tropfendurchmesser im Bereich zwischen 10 μm und 100 μm liegt. Die Erfindung betrifft weiterhin die Verwendung eines mittels des Sprühnebelverfahrens dotierten SiO2-Schlickers zur Herstellung von dotiertem Quarzglas, insbesondere zur Herstellung von laseraktivem Quarzglas.