一种显影方法

摘要

本发明提供一种显影方法，该显影方法包括如下步骤：基板相对于显影机台倾斜设置，所述基板的第一侧边向上，其与第一侧边位置相对的第二侧边向下，且所述基板与所述显影机台之间的倾角为θ1，0<θ1<90°，通过设置于所述基板上方的喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上，该步骤的显影时间为t1；所述基板相对于所述显影机台倾斜设置，所述基板的第二侧边向上，其第一侧边向下，且所述基板与所述显影机台之间的倾角为θ2，0<θ2<90°，通过设置于所述基板上方的所述喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上，该步骤的显影时间为t2。所述显影方法能够提高显影之后获得的光刻图形的线宽均匀性。

主权项

一种显影方法，其特征在于，该显影方法包括如下步骤：基板相对于显影机台倾斜设置，所述基板的第一侧边向上，其与第一侧边位置相对的第二侧边向下，且所述基板与所述显影机台之间的倾角为θ1，0<θ1<90°，通过设置于所述基板上方的喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上，该步骤的显影时间为t1；所述基板相对于所述显影机台倾斜设置，所述基板的第二侧边向上，其第一侧边向下，且所述基板与所述显影机台之间的倾角为θ2，0<θ2<90°，通过设置于所述基板上方的所述喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上，该步骤的显影时间为t2。