发明名称 |
一种用于大面积光刻的投影物镜 |
摘要 |
本发明提供一种用于大面积光刻的投影物镜,包括沿光轴依次设置的一具有正光焦度的第一透镜组,一具有负光焦度的第二透镜组,一孔径光阑,以及一与第二透镜组相对孔径光阑对称设置的第三透镜组,一与第一透镜组相对孔径光阑对称设置的第四透镜组;第一、第二透镜组的光焦度满足以下关系式:G1∶G2=-0.92~-1.08。本发明提供的投影物镜选用0.1的数值孔径使得镜头的总镜片数最少化,并使得大视场的实现不用依赖过多的镜片甚至使用非球面,从而满足大视场曝光分辨率需求。同时本发明使用3nm半高全宽的365nm带宽设计,避免了使用i,g,h三线设计带来的镜头结构复杂性及对材料的苛刻选择性,使得制造本镜头具有广泛的材料可选择。 |
申请公布号 |
CN102375214B |
申请公布日期 |
2013.07.17 |
申请号 |
CN201010255087.9 |
申请日期 |
2010.08.17 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
张品祥;黄玲 |
分类号 |
G02B13/00(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B13/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种用于大面积光刻的投影物镜,其特征在于所述投影物镜包括沿光轴依次设置的一具有正光焦度的第一透镜组,一具有负光焦度的第二透镜组,一孔径光阑,以及一与第二透镜组相对孔径光阑对称设置的第三透镜组,一与第一透镜组相对孔径光阑对称设置的第四透镜组;第一、第二透镜组的光焦度满足以下关系式:G1∶G2=‑0.92~‑1.08其中,G1为第一透镜组光焦度;G2为第二透镜组光焦度。 |
地址 |
201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号 |